五温区cvd一体机
发布时间： 2023-11-10 18:29:11 浏览次数：1139
设备简介：
化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
cvd系统一体炉，供气和真空系统灵活组合，满足各类薄膜沉积，在半导体工业中应用非常广泛。包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
| 设备特点： 1、控制稳定可靠，操作方便。 2、采用先进的pid自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。 3、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。 4、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。 5、配方功能，可预存配方100条以上。 6、五个温区独立控制，使客户烧结工艺更加复杂多样。 7、联网功能，通过rj45接口，采用tcp/ip协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。 | ||||||
产品型号 | nbd-t1200-100t5g4f | ||||||
供电电源 | 三相380v 50hz | ||||||
额定功率 | 10kw | ||||||
测温元件类型 | k型热电偶 200mm | ||||||
最高温度 | 1150℃ | ||||||
加热温区尺寸 | φ150*1135mm | ||||||
炉管尺寸 | φ100*1600mm | ||||||
炉体尺寸 | 长1900*高1250*深900mm | ||||||
推荐升温速率 | 10℃/min | ||||||
重量 | 350kg | ||||||
设备细节 |  | ||||||
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； | |||||
温度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制画面 |  | ||||||
galaxy银河官网的服务支持 | 1年质保，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和o形圈等） | ||||||
免责声明：本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等），仅供参考。可能由于更新不及时，或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异，请与本公司客服人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，诺巴迪公司不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知。
相关产品
|
|
|
|
|
|
|
|
销售热线： 0371-6320 2801
0371-6320 2805
galaxy银河官网的售后服务： 0371-6320 2805
蔡永国： 181-0371-5723
高经理: 188-3829-0747
黄经理: 188-3829-0748
email： nbd@nbdkj.com
地址：郑州·新郑·新华街道竹园8号
- {{item.cat}}
- {{item2.cat}}
-
电话：400-000-3746