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cvdo1200-xt33g2f

发布时间： 2017-11-16 22:16:13 浏览次数：4732

设备简介：

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

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	nbd-101e嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正；
产品型号	nbd-o1200-xt33（炉管直径50、60、80、100mm可选）
工作温度	≤1150℃
加热区尺寸	200mm 400mm 200mm（三温三控）
升温速率	≤20℃/min
电气规格	ac 380v 8kw
气体系统（可选购）	流量计类型	浮子流量计				质量流量计
	管道示意图
	进气接口数量	2、3、4（多路可选）
	流量范围	20-250/20-800ml/min(多量程可选)				50/100/200sccm(多量程可选)
	工作压差范围	0-0.15mpa
低真空系统（可选购）	真空泵型号		nbd-1.5c		nbd-3c		nbd-4c
	抽气速率		1l/s		3l/s		4l/s
	进排气口尺寸		φ8mm宝塔接头		φ8mm宝塔接头		kf16/25
	极限压力		1000pa		100pa		10pa
	工作温度		5-40℃
	电气规格		ac220v
高真空系统（可选购）	真空泵型号		nbd-103(a)		nbd-103(b)		nbd-103(c)
	抽气速率		110l/s		600l/s		700l/s
	真空测量计		复合真空计
	极限压力		10^-3pa		10^-4pa		10^-5pa
	工作温度			5-40℃
	电气规格			ac 220v	ac 220v			ac 380v
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746

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